IEEE Transactions On Plasma Science
IEEE Transactions On Plasma Science杂志简介
- 出版商：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
- 出版语言：English
- TOP期刊：否
- 出版地区：UNITED STATES
- 是否预警：否
- 是否OA：未开放
- 出版周期：Bimonthly
- 出版年份：1973
- 中文名称：IEEE Transactions On Plasma Science
- 是否OA：未开放
IEEE Transactions On Plasma Science（国际简称IEEE T PLASMA SCI，英文名称Ieee Transactions On Plasma Science）是一本未开放获取（OA）国际期刊，自1973年创刊以来，始终站在物理与天体物理研究的前沿。该期刊致力于发表在物理与天体物理领域各个方面达到最高科学标准和具有重要性的研究成果。全面反映该学科的发展趋势，为物理与天体物理事业的进步提供了有力的支撑。期刊严格遵循职业道德标准，对于任何形式的抄袭行为，无论是文字还是图形，一旦查实，均可能导致稿件被拒绝。
在过去几年中，该期刊保持了稳定的发文量和综述量，具体数据如下：
2014年：发表文章763篇、2015年：发表文章574篇、2016年：发表文章470篇、2017年：发表文章451篇、2018年：发表文章561篇、2019年：发表文章714篇、2020年：发表文章559篇、2021年：发表文章515篇、2022年：发表文章645篇、2023年：发表文章419篇。这些数据反映了期刊在全球物理与天体物理领域的影响力和活跃度，同时也展示了其作为学术界和工业界研究人员首选资源的地位。《Ieee Transactions On Plasma Science》将继续致力于推动物理与天体物理领域的知识传播和科学进步，为全球物理与天体物理问题的解决贡献力量。
期刊指数
- 影响因子：1.3
- 文章自引率：0.2
- Gold OA文章占比：3.86%
- CiteScore：3
- 年发文量：419
- 开源占比：0.0733
- SJR指数：0.417
- H-index：98
- SNIP指数：0.861
- OA被引用占比：0.0011...
WOS期刊SCI分区（2023-2024年最新版）
| 按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 29 / 40 |
28.7% |
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 30 / 40 |
26.25% |
中科院分区表
中科院SCI期刊分区 2023年12月升级版
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
| 否 | 否 | 物理与天体物理 4区 |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流体与等离子体
4区
|
CiteScore（2024年最新版）
CiteScore 排名
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||||||
| 3 | 0.417 | 0.861 |
|
学术指标分析
影响因子和CiteScore
自引率
影响因子：指某一期刊的文章在特定年份或时期被引用的频率，是衡量学术期刊影响力的一个重要指标。影响因子越高，代表着期刊的影响力越大 。
CiteScore：该值越高，代表该期刊的论文受到更多其他学者的引用，因此该期刊的影响力也越高。
自引率：是衡量期刊质量和影响力的重要指标之一。通过计算期刊被自身引用的次数与总被引次数的比例，可以反映期刊对于自身研究内容的重视程度以及内部引用的情况。
年发文量：是衡量期刊活跃度和研究产出能力的重要指标，年发文量较多的期刊可能拥有更广泛的读者群体和更高的学术声誉，从而吸引更多的优质稿件。
期刊互引关系
| 序号 | 引用他刊情况 | 引用次数 |
| 1 | IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
| 2 | PHYS PLASMAS | 882 |
| 3 | J PHYS D APPL PHYS | 759 |
| 4 | IEEE T MAGN | 593 |
| 5 | J APPL PHYS | 583 |
| 6 | PLASMA SOURCES SCI T | 427 |
| 7 | APPL PHYS LETT | 341 |
| 8 | PHYS REV LETT | 300 |
| 9 | REV SCI INSTRUM | 278 |
| 10 | IEEE T DIELECT EL IN | 268 |
| 序号 | 被他刊引用情况 | 引用次数 |
| 1 | IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
| 2 | PHYS PLASMAS | 585 |
| 3 | J PHYS D APPL PHYS | 364 |
| 4 | PLASMA SOURCES SCI T | 296 |
| 5 | J APPL PHYS | 236 |
| 6 | AIP ADV | 211 |
| 7 | FUSION ENG DES | 209 |
| 8 | IEEE ACCESS | 201 |
| 9 | IEEE T ELECTRON DEV | 180 |
| 10 | PLASMA SCI TECHNOL | 172 |
高引用文章
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