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半导体加工中的材料科学

英文名称:Materials Science In Semiconductor Processing   国际简称:MAT SCI SEMICON PROC
《Materials Science In Semiconductor Processing》杂志由Elsevier Ltd出版社出版,本刊创刊于1998年,发行周期Bimonthly,每期杂志都汇聚了全球工程技术领域的最新研究成果,包括原创论文、综述文章、研究快报等多种形式,内容涵盖了工程技术的各个方面,为读者提供了全面而深入的学术视野,为工程技术-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC事业的进步提供了有力的支撑。
中科院分区
工程技术
大类学科
1369-8001
ISSN
1873-4081
E-ISSN
预计审稿速度: 约1.7个月 约3.7周
杂志简介 期刊指数 WOS分区 中科院分区 CiteScore 学术指标 高引用文章

半导体加工中的材料科学杂志简介

出版商:Elsevier Ltd
出版语言:English
TOP期刊:
出版地区:ENGLAND
是否预警:

是否OA:未开放

出版周期:Bimonthly
出版年份:1998
中文名称:半导体加工中的材料科学

半导体加工中的材料科学(国际简称MAT SCI SEMICON PROC,英文名称Materials Science In Semiconductor Processing)是一本未开放获取(OA)国际期刊,自1998年创刊以来,始终站在工程技术研究的前沿。该期刊致力于发表在工程技术领域各个方面达到最高科学标准和具有重要性的研究成果。全面反映该学科的发展趋势,为工程技术事业的进步提供了有力的支撑。期刊严格遵循职业道德标准,对于任何形式的抄袭行为,无论是文字还是图形,一旦查实,均可能导致稿件被拒绝。

近年来,来自CHINA MAINLAND、India、South Korea、Turkey、Mexico、Japan、Iran、USA、Saudi Arabia、Italy等国家和地区的研究者在《Materials Science In Semiconductor Processing》上发表了大量的高质量文章。该期刊内容丰富,包括原创研究、综述文章、专题观点、论文预览、专家意见等多种类型,旨在为全球该领域研究者提供广泛的学术交流平台和灵感来源。

在过去几年中,该期刊保持了稳定的发文量和综述量,具体数据如下:

2014年:发表文章518篇、2015年:发表文章753篇、2016年:发表文章390篇、2017年:发表文章455篇、2018年:发表文章412篇、2019年:发表文章468篇、2020年:发表文章485篇、2021年:发表文章873篇、2022年:发表文章706篇、2023年:发表文章635篇。这些数据反映了期刊在全球工程技术领域的影响力和活跃度,同时也展示了其作为学术界和工业界研究人员首选资源的地位。《Materials Science In Semiconductor Processing》将继续致力于推动工程技术领域的知识传播和科学进步,为全球工程技术问题的解决贡献力量。

期刊指数

  • 影响因子:4.2
  • 文章自引率:0.0487...
  • Gold OA文章占比:5.21%
  • CiteScore:8
  • 年发文量:635
  • 开源占比:0.0145
  • SJR指数:0.732
  • H-index:49
  • SNIP指数:0.992
  • OA被引用占比:0.0123...
  • 出版国人文章占比:0.21

WOS期刊SCI分区(2023-2024年最新版)

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 89 / 352

74.9%

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 158 / 438

64%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 51 / 179

71.8%

学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 25 / 79

69%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 113 / 354

68.22%

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 125 / 438

71.58%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 47 / 179

74.02%

学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q1 19 / 79

76.58%

中科院分区表

中科院SCI期刊分区 2023年12月升级版
Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术 3区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理
3区 3区 3区 3区

CiteScore(2024年最新版)

CiteScore 排名
CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
8 0.732 0.992
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:Mechanical Engineering Q1 87 / 672

87%

大类:Engineering 小类:Condensed Matter Physics Q1 59 / 434

86%

大类:Engineering 小类:Mechanics of Materials Q1 60 / 398

85%

大类:Engineering 小类:General Materials Science Q1 100 / 463

78%

学术指标分析

影响因子和CiteScore
自引率

影响因子:指某一期刊的文章在特定年份或时期被引用的频率,是衡量学术期刊影响力的一个重要指标。影响因子越高,代表着期刊的影响力越大 。

CiteScore:该值越高,代表该期刊的论文受到更多其他学者的引用,因此该期刊的影响力也越高。

自引率:是衡量期刊质量和影响力的重要指标之一。通过计算期刊被自身引用的次数与总被引次数的比例,可以反映期刊对于自身研究内容的重视程度以及内部引用的情况。

年发文量:是衡量期刊活跃度和研究产出能力的重要指标,年发文量较多的期刊可能拥有更广泛的读者群体和更高的学术声誉,从而吸引更多的优质稿件。

期刊互引关系
序号 引用他刊情况 引用次数
1 APPL PHYS LETT 835
2 J APPL PHYS 647
3 J ALLOY COMPD 478
4 APPL SURF SCI 451
5 MAT SCI SEMICON PROC 380
6 SENSOR ACTUAT B-CHEM 366
7 RSC ADV 326
8 THIN SOLID FILMS 318
9 PHYS REV B 289
10 J PHYS CHEM C 286
序号 被他刊引用情况 引用次数
1 J MATER SCI-MATER EL 470
2 MATER RES EXPRESS 446
3 MAT SCI SEMICON PROC 380
4 J ALLOY COMPD 269
5 CERAM INT 226
6 APPL SURF SCI 203
7 J ELECTRON MATER 130
8 APPL PHYS A-MATER 117
9 OPTIK 112
10 RSC ADV 106

高引用文章

  • Recent advances in perovskite oxides for anion-intercalation supercapacitor: A review引用次数:42
  • Enhanced photocatalytic performance of visible-light active graphene-WO3 nanostructures for hydrogen production引用次数:36
  • Photocatalytic, Fenton and photo-Fenton degradation of RhB over Z-scheme g-C3N4/LaFeO3 heterojunction photocatalysts引用次数:31
  • Photocatalytic degradation of methylene blue in aqueous solution by using ZnO-SnO2 nanocomposites引用次数:31
  • Recent advances in diamond power semiconductor devices引用次数:25
  • Recent progress in the growth of beta-Ga2O3 for power electronics applications引用次数:23
  • Materials and processing issues in vertical GaN power electronics引用次数:21
  • Review of technology for normally-off HEMTs with p-GaN gate引用次数:21
  • Improving microstructural properties and minimizing crystal imperfections of nanocrystalline Cu2O thin films of different solution molarities for solar cell applications引用次数:20
  • Facilely synthesized Cu:PbS nanoparticles and their structural, morphological, optical, dielectric and electrical studies for optoelectronic applications引用次数:20
若用户需要出版服务,请联系出版商:ELSEVIER SCI LTD, THE BOULEVARD, LANGFORD LANE, KIDLINGTON, OXFORD, ENGLAND, OXON, OX5 1GB。